晶圓代工龍頭台積電 (2330-TW) 領先全球導入極紫外光 (EUV) 微影製程技術，並首創環境友善的「乾式 EUV 光罩潔淨技術」，取代傳統沖洗流程，今年落塵率已削減達 99%，除使光罩使用率躍升超過 8 成，也延長先進製程 EUV 光罩壽命，累計創造改善效益達新台幣 20 億元。
台積電為達優質的 EUV 微影良率，並實踐綠色製造使命，首創乾式 EUV 光罩潔淨技術，透過分析落塵、排除汙染源方式，使機台內每一萬片晶圓曝片的落塵數，從數百顆減少到個位顆數，落塵率削減 99%；導入試產迄今累計節水量約 735 公噸，降低化學品使用量約 36 公噸。
依製程需求，EUV 微影製程光罩分為有 / 無保護膜二種。台積電選用無保護膜的 EUV 光罩，以提高透光性，減少 EUV 微影製程曝光光能損耗；為進一步解決無保護膜 EUV 光罩的落塵問題，台積電品質暨可靠性組織攜手技術發展、營運組織，從 2018 年起，共同開發落塵分析技術。
台積電研發的「乾式 EUV 光罩潔淨技術」，透過乾式技術快速去除落塵，取代需要使用純水與化學品的濕式清潔手法；同時，以次奈米級分析技術精準定位落塵來源，從根本排除汙染源，經不斷測試與優化，今年成功使落塵削減率超過 99%。
藉由乾式 EUV 光罩潔淨技術創新，台積電除達成利用 EUV 微影製程技術領先量產目標，資源使用效率也進一步提升，自 2018 年導入試產至今，有效減省水、化學品等能資源使用量，且據生產週期控管系統顯示，乾式潔淨技術導入後，大幅縮短光罩保修頻率與時間，光罩使用率躍升超過 80%，也延長先進製程 EUV 光罩壽命。
台積電去年進一步發展乾式 EUV 光罩潔淨技術自動化，已於今年 1 月全面導入 12 吋晶圓廠區量產；目前台積電品質暨可靠性組織，持續開發更微小的落塵分析及清潔技術，為未來更精密的先進製程打下穩健品質管理基礎，實踐科技與生態並存的綠色製造承諾。