晶圓代工廠聯電 (2303-TW) 今 (22) 日公告，就美國司法部起訴公司違反聯邦營業秘密保護法案件，已與司法部達成和解，承認侵害一項營業秘密，同意支付美國政府 6000 萬美元 (約合新台幣 17.17 億元) 罰金，並在 3 年自主管理緩刑期間內與司法部合作。
在和解協議中，司法部同意撤銷對聯電原來的指控，包括共謀實施經濟間諜活動、共謀竊取多項美光營業秘密、和專利有關的指控、及可能從 4 億到 87 億 5000 萬美元的損害賠償及罰金等。聯電承認侵害一項營業秘密，同意支付 6000 萬美元罰金，並在 3 年自主管理緩刑期間內與司法部合作。
2016 年 5 月，聯電經由經濟部投審會核准，與福建晉華簽署合作協議。依據該協議，聯電與晉華共同開發兩代 DRAM 製程。聯電表示，協議中所開發的 DRAM 製程並非最新技術，而是 2012 年已用於量產技術相似的舊技術。
聯電指出，當時為 DRAM 合作案公開招募工程師，不允許任何員工攜帶前公司資訊到聯電，且針對自身與他人營業秘密已有多項保護與防免政策與措施，但 2 位參與 DRAM 合作案的台灣美光前員工，卻違反與聯電簽訂的僱傭合約與聲明書，攜帶前公司資訊進入聯電，並於工作中參考。
聯電強調，當公司知悉上述情事時，立即採取必要措施，以確認開發的製程技術不包含任何未經授權的資訊。合作協議中所提及的第一代 DRAM 製程技術，在 2018 年 9 月依協議移轉給晉華，聯電從無意圖、也未移轉任何未經授權的資訊給晉華。
然而，依據美國營業秘密保護法，即使員工在公司高層不知情情況下違反公司政策，公司對於員工行為仍須負法律責任。因此，聯電在和解協議中承認、並接受因員工觸法所造成的責任。
對於此案與美國司法部達成和解，聯電董事長洪嘉聰表示，很欣慰與美國政府達成協議，未來將持續在各領域提供具競爭力的產品及服務。
洪嘉聰並說，將繼續落實並加強有關營業秘密保護與防免政策與措施，包括機密資訊監管機制、智財權保護的教育訓練與稽核等，以確保日常營運符合公司智財權及資安保護政策。
聯電超過三分之一營收來自美國，與美國客戶及供應商都有長久業務關係，最近更與美國公司合作，生產對抗新冠肺炎所需呼吸器中的半導體晶片。