《彭博》週二 (5 日) 引述消息人士報導，美國官員正在遊說 ASML 禁止向中國出售一些較舊的極紫外光 (EUV) 曝光機或深紫外光 (DUV) 系統，受此消息拖累，ASML ADR (ASML-US) 週二大跌 4.55% 至每股 409.00 美元。
受到美中科技戰影響之下，荷蘭半導體微影設備廠 ASML 用於先進製程的 EUV 曝光機無法獲得荷蘭政府許可出口中國，而且禁售範圍可能進一步擴大。
消息人士透露，美國官員正在遊說 ASML 禁止向中國出售一些較舊的極紫外光 (EUV) 曝光機或深紫外光 (DUV) 系統，儘管這些不是用來製造先進製程晶片，但是仍是製造汽車、電話、電腦甚至機器人晶片所需的設備。
消息人士稱，禁售討論是在美國商務部副部長 Don Graves 於 5 月下旬和 6 月初訪問荷蘭和比利時討論供應鏈問題時傳出。Graves 當時造訪 ASML 位於荷蘭 Veldhoven 的總部，會見執行長 Peter Wennink。
不過，荷蘭政府尚未同意對 ASML 向中國晶片製造商出口的任何額外限制，這可能會損害荷蘭與中國間的貿易關係。
ASML 回應：「這些消息不是新聞了，公司尚未作出任何決定，不希望對傳言進行猜測或發表評論。」
另一位消息人士指出，美國還試圖向日本施加壓力，要求日本 Nikon 停止向中國晶片製造商提供相同的技術。
市場解讀，基於國家安全考慮，諸如應用材料 (AMAT-US) 和科林研發 (LRCX-US) 等主要晶片設備製造商已禁止向中國中芯國際銷售某些先進產品，潛在的 DUV 禁令可能會進一步打擊中芯國際等中國半導體公司。
台灣經濟研究所分析師 Johnson Wang 表示，曝光機是中國在半導體生產方面最難更換的設備，如果沒有國外提供 DUV 設備，中國半導體產業發展可能會停滯不前。
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