韓媒:ASML最先進EUV設備 今年產能全由英特爾買下

鉅亨網新聞中心
韓媒:ASML最先進EUV設備 今年產能全由英特爾買下(圖:shutterstock)
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據韓媒《TheElec》報導,ASML 截至明年上半年絕大部分高數值孔徑 EUV 設備的訂單,已經由英特爾 (INTC-US) 買下,包括今年計畫生產的五套設備,將全部運給這家美國晶片製造商。

消息人士表示,由於 ASML 高數值孔徑 EUV 設備的產能約為每年 5 至 6 台,這意味著英特爾將獲得所有初始庫存。英特爾的競爭對手三星和 SK 海力士,預計將在明年下半年的某個時候,才能獲得這一設備。

據報導,英特爾在宣布重新進入晶片代工生產業務時,就搶先購買了這些設備。

ASML 的高數值孔徑 EUV 設備是晶片製造商製造 2 奈米製程節點晶片的必備設備,每台的成本超過 3.5 億歐元 (3.73 億美元)。這一最先進設備,可將 EUV 光引導到矽晶圓上以創建複雜的圖案,從而顯著提高半導體圖案的分辨率和精度。

英特爾代工旗下邏輯技術開發部門的光刻、硬體和解決方案主管 Mark Phillips 先前表示,英特爾將於今年稍後將 High NA EUV 曝光機投入製程開發工作。

英特爾聲稱,該工具可以改變在矽晶圓上投影印刷影像的光學設計,大幅提高未來處理器的解析度和可擴展性。

為了支援先進的處理節點,英特爾和 ASML 聯手組裝了 ASML 的 TWINSCAN EXE:5000 掃描儀,使英特爾成為業內第一個獲得高 NA EUV 工具的公司。

Phillips 表示,英特爾不僅是客戶,更非常積極地參與了該工具的初步討論和概念,與 ASML 共同努力找出該工具的商業案例,如何有效地使用它,並在多年前同意了這些規格。